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【2h】

Composition and strain dependence of band offsets at metamorphic In$_{x}$Ga$_{1-x}$As/In$_{y}$Al$_{1-y}$As heterostructures

机译:变质作用下带偏移的成分和应变依赖性   在$ _ {x} $ Ga $ _ {1-x} $ as / In $ _ {y} $ al $ _ {1-y} $ as heterostructures

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摘要

We have studied the In$_{x}$Ga$_{1-x}$As/In$_{y}$Al$_{1-y}$As (001) interfaceusing first-principles ab-initio pseudopotential calculations, focusing on theeffects of alloy composition and strain state on the electronic properties. Inparticular we estimate a valence band offset (VBO) of 0.11 eV (InGaAs higher),including spin-orbit and self-energy corrections, for a strain-compensatedconfiguration with homogenous composition $x=y=0.75$ on a lattice-matchedsubstrate. Unintentional composition fluctuations which are typically limitedto a few percent and different short-range order effects give rise only tosmall variations on the VBO, of the order of 0.1 eV or less, whereasintentional substantial changes in the alloys composition allow to achieve ahigh tunability of band offsets. We predict a VBO varying in a range of about1.1 eV for interfaces between the pure arsenides in different strain states asextreme cases of composition variation atIn$_{x}$Ga$_{1-x}$As/In$_{y}$Al$_{1-y}$As heterostructures.
机译:我们使用第一性原理ab-initio伪电位研究了In $ _ {x} $ Ga $ _ {1-x} $ As / In $ _ {y} $ Al $ _ {1-y} $ As(001)接口计算,着重于合金组成和应变状态对电子性能的影响。特别是,对于晶格匹配基板上具有均质成分$ x = y = 0.75 $的应变补偿配置,我们估计价带偏移(VBO)为0.11 eV(InGaAs更高),包括自旋轨道和自能校正。意外的成分波动通常限制在几个百分点,并且不同的短程有序影响只会在VBO上产生很小的变化,约为0.1 eV或更小,而合金成分的有意的实质性变化则可以实现带偏移的高可调性。我们预测在不同应变状态下,纯砷化物之间的界面的VBO的变化范围约为1.1 eV,这是In $ _ {x} $ Ga $ _ {1-x} $ As / In $ _ { y} $ Al $ _ {1-y} $作为异质结构。

著录项

  • 作者

    Stroppa, A.; Peressi, M.;

  • 作者单位
  • 年度 2005
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 {"code":"en","name":"English","id":9}
  • 中图分类

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